Dòng FT160 là loại thiết bị hoàn hảo cho độ chính xác cao, năng suất cao ở cấp độ mạ nano được áp dụng cho các linh kiện điện tử nhỏ. Phạm vi ứng dụng rộng hơn nữa cho đo độ dày lớp phủ ENIG, ENEPIG.
Tất cả các loại máy FT160 đều có camera HD và chiếu sáng hình khuyên để cung cấp điều kiện ánh sáng và định vị điểm đo chính xác. Thiết kế phần mềm đo đạc chú trọng đến sự thân thiện với người dùng và có khả năng xử lý các ứng dụng có độ dày lớp phủ đầy thách thức bao gồm vàng (Au), bạc (Ag), thiếc (Sn) và (Ni-P).
Quang học hội tụ tia X đa mao dẫn
Thực hiện phép đo chính xác cao bằng cách chiếu tia X sơ cấp có độ chói cao vào khu vực khoảng 30 μmφ.
Hệ thống đầu dò Silicon Drift Detector (SDD)
Đầu dò SDD có tỷ lệ đếm cao cho phép đo có độ chính xác cao.
Chức năng trợ lý tự động đo
Chức năng đo tự động đa điểm chính xác giúp đo lường hiệu quả cao.
Vận hành đơn giản với giao diện đơn giản và chức năng trợ giúp trên phần mềm
Các phép đo thông lệ hàng ngày có thể được tiến hành dễ dàng bằng cách sử dụng công thức giống như ứng dụng đã đăng ký.
Máy thiết kế An toàn cao
Việc thiết kế vỏ hộp máy khép kín sẽ giảm thiểu đáng kể nguy cơ rò rỉ tia X cho độ an toàn cao.
Thiết kế cửa rộng giúp cải thiện tầm nhìn của mẫu và khả năng hoạt động của thiết bị.
Specifications:
| Model | FT160S | FT160Sh | FT160 | FT160h | FT160L | FT160Lh |
|---|---|---|---|---|---|---|
| X-ray source | Standard | High-energy | Standard | High-energy | Standard | High-energy |
| Mo | W | Mo | W | Mo | W | |
| Elements | Atomic No. 13(Al) to 92(U) | |||||
| Sample stage (mm) | 300(W) × 245(D) | 420(W) × 320(D) | 620(W) × 620(D) | |||
| Maximum sample size (mm) | 300(X) × 245(Y) × 80(Z) | 400(X) × 300(Y) × 100(Z) | 600(X) × 600(Y) × 20(Z) | |||
